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日本有限會社NAS技研微量金屬污染物全自動采樣設(shè)備（NAC系列）



以往的問題

晶圓端面污染物采樣技術(shù)
基本上需要把平放的晶圓垂直豎起。
讓晶圓旋轉(zhuǎn)，難以實(shí)現(xiàn)只允許端面和采樣液接觸。

問題點(diǎn)
晶圓垂直豎起旋轉(zhuǎn)需要專用設(shè)備。
需要一定量的采樣液，采樣液太少就無法滿足采樣要求。

本公司產(chǎn)品特有的解決方案
利用液體表面張力的端面采樣支架具
晶圓端面接觸從支架具側(cè)面狹縫中稍微突起的采樣液。
由于表面張力會使采樣液表面突起，但采樣液不會從狹縫中溢出。

端面采樣描述


晶圓旋轉(zhuǎn)時(shí)只允許晶圓端面接觸采樣液。

通過位置調(diào)整，使采樣液不會被卷到旋轉(zhuǎn)晶圓的正反面上。（已取得**）


日本有限會社NAS技研簡易性微量金屬污染物采用設(shè)備（NAC系列）
NAC-302 NAC-304 NAC-316 

＜NAC系列的主要特點(diǎn)＞
●對于硅晶圓，全自動地進(jìn)**相分解→污染物采樣→采樣樣品的稀釋作業(yè)。
●對于憎水性和親水性晶圓二者都可以采樣（端面采樣**憎水性晶圓）。
●對于大量晶圓有采樣分析的需求時(shí)，本設(shè)備可以大顯身手
●擁有對于采樣液的計(jì)量和稀釋功能，一旦晶圓上有藥液殘留時(shí)可以防止作業(yè)繼續(xù)進(jìn)行。
●獨(dú)特的窗門雙層結(jié)構(gòu)，以防工作空間內(nèi)的酸氣氛和操作員一方的空氣發(fā)生交叉污染。
●具有自動清洗采樣用支架具的功能，削減了手工操作（※表面和端面二種支架具都適用）。

另外，還有“基體蝕刻→晶圓污染物采樣”全自動設(shè)備（NAC-304）。
并且，近幾年來，為減少污染，對于“基體蝕刻→晶圓污染物采樣→ICP-MS自動對接并進(jìn)行元素分析”一氣完成的需求日益高漲（NAC-316）。